光學應用冷熱臺作為變溫環(huán)境下研究光學性能的關(guān)鍵設備，廣泛應用于材料科學、半導體物理、光電子器件、納米技術(shù)、生物光子學、礦物等領(lǐng)域，精確控制樣品溫度并實時測試其光學特性（如顯微圖像、熒光、拉曼、折射率、發(fā)光效率等）。

本系列產(chǎn)品具備4K至1700℃的超寬范圍精確控溫能力。依據(jù)目標溫度及應用特點，集成包括：液氦制冷、液氮制冷、熱電制冷、電阻加熱、紅外加熱、激光加熱等在內(nèi)的多種前沿溫控解決方案，為復雜變溫實驗提供強大支持。

同時，提供多語言SDK（如Labview、C#等），賦能客戶實現(xiàn)高效定制化集成。

果果儀器H1200：溫度范圍RT~1200℃；平面式載樣臺，反射光路；頂蓋配置循環(huán)水保護。

超高溫熱臺H1000/H1200特點：

• 溫度范圍：RT~1200℃

• 溫度穩(wěn)定性：±0.1℃

• 支持反射

• 高精度控溫

• 專業(yè)溫控軟件

• 支持定制

超高溫熱臺H1000/H1200參數(shù)：